1.專利商標及著作權之內容:液相磊晶成長機；氣相磊晶成長機；高真空烘機；有機金屬
氣相沉積機械；合金機；氣相沉積機械；低壓氣相沉積機械；擴散機；晶片裝載機；熱
處理機械；石英管清洗機械；晶片清洗機械；多功能閥組箱；多功能閥組盤；化學清洗
槽；礦業、化學、生化科技、工業與半導體光電產業用之氣體流量及壓力調節並具有抽
氣裝置之氣瓶櫃；礦業、化學、生化科技、工業與半導體光電產業用之酸、鹼有機藥液
儲存、淨化及稀釋之輸送機械，包含熱能轉換器、泵、離心幫浦、壓縮空氣式幫浦、氣
液體轉換之排氣集液器、管路防空抽機器；礦業、化學、生化科技、工業與半導體光電
產業用之氣體儲存、純化、輸送機械，包含氣瓶櫃、油水分離器、空氣壓縮機、氣體製
造機、氣體淨化過濾器、氣體液化機、壓力閥、減壓器、機械用管接頭、過濾器；礦業
、化學、生化科技、工業與半導體光電產業用之酸、鹼及氧化混合式研磨藥液儲存、淨
化及稀釋輸送機械，包含熱能轉換器、泵、離心幫浦、壓縮空氣式幫浦、空壓缸、液體
過濾器、儲存槽、滾筒、溼度調節補償機械、桶槽壓力調節及補償機械、氣液體轉換之
排氣集液器、管路防空抽機械；礦業、化學、生化科技、工業與半導體光電產業化學廢
棄物回收機械，包含熱能轉換器、泵、離心幫浦、壓縮空氣式幫浦、空壓缸、液體
過濾器、儲存槽、滾筒。
2.專利商標及著作權之取得日期:93/04/20
3.取得專利商標及著作權之成本:10,400元
4.其他應敘明事項:專用期限：93/04/01~103/03/31